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CLEAN ROOM SYSTEM : I.C.R


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CR개요 I.C.R B.C.R 바이오하자드

 

 

I.C.R


 

- OPEN BAY SYSTEM

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개요 특징

청정도 클라스 1,10,100의 Down Flow방식 클린룸에서는 천정면에 초고성능필터 (ULPA혹은 HEPA)를 설치하고 Dead Space를 적게 하는 System Ceiling방식이다.

경년변화가 없이 안정화한 젤리 상의 Sealer(Pink Gel)또는 Silicone Sealant를 사용하고 있어 Ar leak( 공기 누설 )의 걱정이 없으며, 조명은 대전방지 아크릴카바를 씌운 Tear Drop형광등으로 형광등높이를 낮추어서 난류구역을 풀입니다.

Auminum Flame은 가늘고 가볍지만 충분한강도를 가지고 있다.

프레임 접속부는 Smart하고 외관이 우수하며, 프레임 가공은 전체공장에서 실시하므로 현장시공 공기가 짧습니다.

ULPA, HEPA마감판넬의 조립에 의해 Class 1~1000의 클린룸을 자유롭게 설계할 수가 있다.

감지기나 스피커는 ALmould bar 에 직접취 부하므로 천정면의 필터 취부면 적을 최대로 할 수 있다.

 

 

- CTM SYSTME

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개요 특징
터널 클린 룸 시스템은 전체면 Down Flow 클린 룸에 비교하여 설비비,운전비 모두 풀일수 있으며, 또 초고청정도를 유지할수 있고 ±0.1℃의 초정밀 온도 Control도 가능하다.

초정밀 온도조절장치를 터널에 연결하여, 전풍량의 10-20% Control함으로써 전체를 ±0.1℃ 까지 유지할수가 있다.

각각의 시스템은 Unit화 되어 있고, 조합이 자유롭게 선택되고,조립 증설이 쉽게 행해진다.

Filter는 0,1.m, 0.3Am 용 모두 사용이 가능하다.

기류조정은 Shutter 부착 Access Floor를 설치하여 제조장치를 설치한 후에도 쉽게조정한다.

ULPAHEPA마감판넬의 조립에 의해 Class 1~1000의 클린룸을 자유롭게 설계할수가 있다. 

자립방식 은 어떤모양의 장소에도 설치 가능하고, 건축설비와는 분리계획이 가능하다.

 

 

- FFU SYSTEM

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개요 특징

천장에 설치된 FFU 및 Blind Panel의 변경에 의하여 Lay-out변경이 가능하다 Control도 가능하다. 

온도는 Dry Coil에 의하여 설정된 온도조건으로 되며 습도는 외기처리 공조기에 의하여 노점 제어되고 Return PlenumL내에 공급되는 외기에 의하여 제외된다

고청정도 유지에 비해 설비비 및 운전비가 저렴하며 제조장치의 Lay-out변경에 따른 유연성이 좋다.

공조기계실의 면적을 작게 하고 건설공기가 대폭 단축된다

작업을 정지하지 않고 제조장치를 교환할 수 있으며, 항후 확장성이 매우좋다.

 

 

SMIF SYSTME

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개요 특징
SMIF(Standard Mechanical Interface) & FIMS(Front-Opening Interface Mechanical Stan dard) 시 스템은 전체 클린룸 설비 가 운데 노광 및 에칭 등 초청정 환경이 요구되는 일부 공간만을 클래스 1이하의 초청정 상태로 유지함으로써 전체 클린룸 설비의 사용효율을 극대화하는 차세대 클린룸 설비로 각각의 핵심 반도체 장비에 부착되는 초소형 클린룸 장치 (Mini Environment), 밀폐형 웨이퍼 용기(Pod/FOUP), 밀폐형 웨이퍼 용기 개폐 장치(Indexer/Opener), 그리고 웨이퍼 이송용 로봇 시스템 등으로 구성된다.

웨이퍼 공정진행 공간만을 최소화 하여 국부적 고청 정도를 유지시킴으로써 외부환경에 따른 오염 발생을 근본적으로 차단.

반도체의 수율 및 수익성 향상. 

설비 및 Running Cost 절감.

Chamber내의 기류 분포 균일성 유지.

 

 


 
 
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